用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業(yè)發(fā)展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優(yōu)化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業(yè)廠商、學校研究院所的積極聯(lián)合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環(huán)功能,根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng);當其中一個桶內(nèi)的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè),最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12整平機的工作原理是利用滾輪對金屬板材或卷材施加壓力,使其產(chǎn)生塑性變形,從而達到平整的效果。以下是其工作原理的詳細介紹: 1.壓力作用:整平機的上下滾輪組在動力驅(qū)動下,對通過其間的金屬材料施加一定壓力。由于金屬材料具有一定的塑性,在壓力作用下,材料內(nèi)部的晶體結(jié)構會發(fā)生滑移和重組,宏觀上表現(xiàn)為材料的形狀改變。
等離子清洗機是一種利用等離子體技術對物體表面進行處理的設備,其作用主要包括以下幾個方面: 1.表面清潔 去除有機污染物:能有效去除物體表面的油脂、油污、指紋、光刻膠等有機雜質(zhì)。等離子體中的高能粒子與有機污染物發(fā)生化學反應,將其分解為二氧化碳、水等小分子物質(zhì),從而達到清潔表面的目的。
化學品通風柜是一種用于實驗室等場所,通過通風系統(tǒng)將有害氣體、蒸汽、粉塵等污染物排出室外,以保護實驗人員健康和實驗室環(huán)境的設備。它廣泛應用于以下行業(yè): 1.化學化工行業(yè) 研發(fā)實驗室:在化學化工產(chǎn)品的研發(fā)過程中,科研人員需要進行各種化學反應實驗,會使用到多種化學品,產(chǎn)生有害氣體。通風柜能及時排出這些有害氣體,確保實驗人員的安全和實驗環(huán)境的穩(wěn)定。